NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)可在多種領(lǐng)域中應(yīng)用

　　NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)全面滿足科學(xué)研究，工藝級(jí)生產(chǎn)等多領(lǐng)域的應(yīng)用。*采用非接觸式100%標(biāo)定系統(tǒng)，對(duì)晶圓和掩膜沒有傷害，大大提高間隙精度

　　非接觸式掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)maskaligner適合各種電子元器件，包括半導(dǎo)體，LED,LD,MEMS，傳感器等。

　　NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)主要是用于光刻膠曝光。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。

　　光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被溶解，只留下未受光照的部分形成圖形而負(fù)膠卻恰恰相反，經(jīng)過曝光后，受到光照的部分會(huì)變得不易溶解，經(jīng)過顯影后，留下光照部分形成圖形。負(fù)膠在光刻工藝上應(yīng)用早，其工藝成本低、產(chǎn)量高，但由于它吸收顯影液后會(huì)膨脹，導(dǎo)致其分辨率（即光刻工藝中所能開誠小圖形》不如正膠，因此對(duì)于亞微米甚至更小尺寸的加工技術(shù)，主要使用正膠作為光刻膠。

　　NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)的清潔

　　所有石英燈管在封裝運(yùn)輸前都會(huì)經(jīng)過精心的清潔步驟。如果小心處理，(例如：燈管主體沒有指紋)，當(dāng)打開包裝時(shí)即可使用。如果用雙手直接接觸燈管,則應(yīng)用脫離子水或工業(yè)酒精稍稍浸濕紙巾，仔細(xì)擦拭燈管，再用干燥紙巾重新將燈管擦干。根據(jù)需要，還應(yīng)定期清潔燈管及反射罩。尤其在當(dāng)燈管表面沾有其它附著物時(shí)更應(yīng)進(jìn)行清潔。如果不能及時(shí)處理，將導(dǎo)致燈管過早失去透明性并會(huì)影響其工作效果。

　　以上便是今天關(guān)于NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)可在多種領(lǐng)域中應(yīng)用的全部分享了，希望對(duì)大家今后使用本設(shè)備能有幫助。