臺式納米壓印機

一、納米壓印機的工作原理

納米壓印技術通過物理壓印的方式，將模板（模板表面具有納米級圖案）的微結構轉移到目標材料表面，主要分為以下兩種主流工藝：

1. 熱壓印（Thermal NIL）

步驟：

加熱軟化：將聚合物材料（如PMMA、SU-8等）加熱至玻璃化轉變溫度以上，使其軟化。

壓印成型：用硬質模板（如硅、石英）在高壓下壓入軟化的聚合物，形成納米結構。

冷卻脫模：降溫固化聚合物后，分離模板，保留納米圖案。

特點：工藝簡單、成本低，但高溫可能限制對熱敏感材料的應用。

2. 紫外光固化壓印（UV-NIL）

步驟：

涂覆光刻膠：在基材表面旋涂紫外光固化膠（低粘度樹脂）。

壓印曝光：用透明模板（如石英）壓合膠層，同時紫外光照射固化膠體。

脫模與刻蝕：分離模板后，通過刻蝕去除殘留膠層，得到納米結構。

特點：室溫操作、分辨率高（可達<50nm），適合精密器件制造。

納米壓印優勢：

超高分辨率：超越傳統光刻的物理衍射極限。

低成本：無需復雜光學系統，適合大面積圖案化。

材料兼容廣：可加工金屬、聚合物、玻璃等多種基材。

二、納米壓印機技術特點

    CNI v3.0系列納米壓印機是一款專為實驗室開發的即插即用，兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能，而且可以快速的實現真空環境下的壓印。UV蓋和連接器的壓印腔室，控制模塊，用于自動控制壓印過程（壓力，溫度，UV曝光等），壓印室可實現真空兼容，低至1mbar。

★1.1承載基片：≤210mm的各種基片，高度20mm；

1.2壓印真空度：1mbar；

1.3加熱溫度：最高溫度250℃；

1.4最大壓力：≥5bar；

1.5 UV波長：4個組合的LED光源，波長365nm，組合光的功率可達到11.6W，LED光源的溫度被實時檢測，擁有過熱保護功能；

1.6 UV最大功率：≥11,600mW

1.7 印章載體：1個可更換的直徑為210 mm的加熱元件，還可以用作壓印腔中的印模承載平臺，能夠在高達250℃的溫度下進行熱壓印；

1.8 壓印軟件：運行CNI 軟件，該軟件控制壓印過程中的所有內容（壓力，溫度，紫外線照射，時間等）

三、納米壓印機的應用

納米壓印技術憑借其高分辨率和低成本特性，廣泛應用于以下領域：

1.半導體與集成電路

制造高密度存儲芯片（如NAND閃存、MRAM）。

光子集成電路（如硅光器件、光柵耦合器）。

優勢：替代傳統EUV光刻，降低優良制程成本。

2.光學器件與顯示技術

增強現實（AR）衍射光波導。

液晶顯示（LCD）導光板微結構。

超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列。

優勢：實現復雜光學結構的低成本批量生產。

3.生物醫學與傳感器

微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道。

表面增強拉曼散射（SERS）基底。

生物分子檢測的納米孔陣列。

優勢：高精度結構提升檢測靈敏度與特異性。

4.新能源與柔性電子

鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結構。

柔性電子（如可穿戴傳感器）的導電圖案。

透明導電膜（如銀納米線網格）。

優勢：兼容柔性基材（PET、PI），支持卷對卷（R2R）工藝。

5.防偽與裝飾

包裝的全息防偽標簽。

奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋、啞光效果）。

優勢：微結構可定制化，難以復制。