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    當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  光刻膠  >  Futurrex光刻膠  >  美國Futurrex光刻膠

    美國Futurrex光刻膠

    簡要描述:Futurrex 成立于1985年,是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱,從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有:Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm (高通)等。Futurrex長期與Intel實驗室合作,產(chǎn)品被廣泛收錄進(jìn)美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程,是各大研究機(jī)構(gòu)產(chǎn)品。

    • 產(chǎn)品型號:
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時間:2025-07-01
    • 訪  問  量:6605

    詳細(xì)介紹

    Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢:

    1Futurrex光刻膠黏附性好,無需使用增粘劑(HMDS

    2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3

    3150度烘烤,縮短了烘烤時間

    4、單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚

    5、顯影速率快,100微米的膜厚,僅需6~8分鐘

    應(yīng)用領(lǐng)域

    型號

    特性

    半導(dǎo)體

    NR9-PY

    用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫

    NR71-PY

    用于lift-off工藝,高溫,可作為間隔材料

    NR9-P

    高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

    NR71-P

    做掩膜,適用于干法刻蝕,可作為間隔材料

    NR21-P

    100um的膜厚,具有良好的分辨率

    NR5

    可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕

    PR1

    耐高溫,用于一般圖案的正性光刻膠,離子刻蝕,濕法刻蝕

    IC1/DC5

    濾波等電解質(zhì)材料

    PC3

    平坦化,臨時黏附及機(jī)械保護(hù)

    BDC1/PDC1/ZPDC1

    摻雜工藝

    太陽能

    BDC1

    摻硼材料

    PDC1

    摻磷材料

    NR71/NR9-PY

    用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料

    NR9-P

    高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

    LED/OLED/HBLED

    NR9-PY

    用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫

    NR71-P

    做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料

    IC1

    濾波等電解質(zhì)材料

    MEMS

    NR9-P

    高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

    NR5/NR71

    可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕/做掩膜,可作間隔材料

    NR2

    可實現(xiàn)120um膜厚,61深寬比的圖案,適用于電鍍、濕法刻蝕

    NR71/NR9-PY

    用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料

    PC3

    平坦化,臨時黏附及機(jī)械保護(hù)

    IC1

    濾波等電解質(zhì)材料

    微流體與生物芯片

    NR71-P

    做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料

    NR2

    可實現(xiàn)120um膜厚,61深寬比的圖案,適用于電鍍、濕法刻蝕

    NR5

    可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕

    光電子

    NR71/NR9-PY

    用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料

    NR71-P

    做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料

    PR1

    刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂

    NR9-P

    高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕

    NR2-P

    可實現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案,分辨率好,易于去膠

    封裝

    NR2-P

    可實現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案,分辨率好,易于去膠

    NR5

    可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕

    PR1

    刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂

    平坦化

    PC3

    平坦化,臨時黏附及機(jī)械保護(hù)

    圖案印刷

    PR1

    刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂

    NR9

    增強(qiáng)了黏附性,適用于噴涂和輥涂

    顯影液

    RD6

    顯影時間短,適用于正、負(fù)性光刻膠,

    去膠液

    RR41/RR5

    可以安全、高效的去除光刻膠及臨時涂層,適用于多種襯底材料

    邊膠清洗液

    EBR2

    高效、快速的邊膠去除

     

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