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    當前位置:首頁   >  產品中心  >  光刻膠  >  納米光刻壓印膠  >  mr-NIL212FC德國納米壓印光刻膠

    德國納米壓印光刻膠

    簡要描述:高分辨率:支持 <100 nm 結構壓印(如mr-NIL212FC可實現200nm柱陣列)。
    量產適配:
    UV-NIL:室溫低壓(<100 mbar),適合大面積和連續生產(R2R)。
    T-NIL:熱塑性/熱固性 可選,平衡效率與穩定性。
    工藝靈活性:
    可搭配 LOR 光刻膠實現金屬納米結構剝離(Lift-off)。
    通過 SiPOL 硅含量樹脂實現圖案放大,用于深槽刻蝕。

    • 產品型號:mr-NIL212FC
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-07-02
    • 訪  問  量:884

    詳細介紹

    納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠,助力納米制造革命

    ——來自德國 micro resist technology,納米壓印光刻材料的行業先驅



    核心優勢

    ? Excellence的薄膜質量 | ? 高保真圖案復制 | ? 優異的干法刻蝕性能
    ? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業級安全標準(ISO 9001 & 14001)

    應用領域

    l光子學(超表面、光柵、AR/VR)

    l下一代電子器件(納米線、MEMS)

    l生命科學與傳感器(微流控芯片、生物傳感器)


    明星產品系列

    1. UV-NIL 光刻膠

    產品型號

    核心特性

    適用場景

    mr-NIL210

    專為 PDMS 類柔性印章優化,極薄殘膠控制(<10nm),高均勻性

    柔性基底、曲面壓印、快速量產

    mr-NIL212FC

    兼容低強度光源(<40>2(SiO?),適合精密金屬蝕刻

    納米電子、金屬納米結構制造

    mr-NIL200

    自粘附配方,無需底涂,專為硬質印章(石英/OrmoStamp®)設計

    高精度光學元件、硬質基底壓印

    mr-UVCuF26SF

    溶劑型噴墨專用,低自發熒光,生物相容性佳

    生物芯片、醫療器件

    2.



    2.



    熱壓印(T-NIL)光刻膠

    | mr-I 9000M | 熱固性樹脂,無玻璃化轉變溫度(Tg),耐高溫 260°C,yongjiu光學透明 | 高溫環境應用(如封裝、光學透鏡) |
    | mr-I T85 | 基于 COC 材料,耐酸堿/有機溶劑,超高紫外透過率 | 微流控芯片、透明器件 |

    3. 創新工藝方案

    NIL + 剝離工藝:結合 mr-NIL212FC/LOR 實現復雜金屬納米結構(如 200nm 金屬網格)。

    NIL + 深度刻蝕:通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模(SiO?)實現高深寬比結構放大。



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