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    當前位置:首頁   >  產品中心  >  快速退火爐  >  國產  >  FRTP-1200V12英寸帶真空退火爐

    12英寸帶真空退火爐

    簡要描述:12英寸帶真空退火爐,使用多溫區控溫,可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

    • 產品型號:FRTP-1200V
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-11-26
    • 訪  問  量:213

    詳細介紹

    12英寸帶真空退火爐

    1.溫度范圍:1501,300℃;                              

    2.升溫速率:1-200/秒可調;                              

    3.溫度均勻性:±5℃(200mm wafer 1015℃);                              

    4.樣品尺寸:12寸或300×300mm(多溫區控制);                

    5.控制軟硬件:自研系統軟件,支持SEMI自動化標準,SECS/GEM通訊接口;可編程溫度曲線存儲500條以上, 每條曲線包括50段以上,數據可導出為文本文件便于數據處理。                                 

    6.降溫速率:80/秒(急冷可選,降溫速率200/秒);

    7.溫度設定范圍:100-1,300℃,每段時間設定范圍1- 30,000秒;    

    8.溫度過沖:<5℃;                           

    9.測溫系統:K型熱偶,雙點測溫(光學測溫可選);                            

    10.降溫系統:CDA,水冷;                               

    11.控溫精度:±0.3℃;                              

    12.PID溫控:PID溫控,在升溫速率下仍可保證不過沖;     

    13.保溫時間:1200℃保溫時間>600秒;                             

    14.溫度穩態穩定性:±1℃;                             

    15.工藝氣路:2MFC(最多可選6路);

    12英寸帶真空退火爐應用領域:
    硅基,三代,四代半導體制程工藝(RTP,RTA,RTO,RTN)
    鐵電材料研究
    薄膜應力調控
    集成電路制造
    材料物性測試前熱處理,熱振實驗
    CMOS工藝優化
    摻雜激活(離子注入后退火)
    歐姆接觸退火(金屬化退火)
    氧化/氮化處理
    高k介質熱處理
    硅片表面處理
    太陽能電池制造
    相變材料處理
    薄膜應力調控
    晶粒生長與結晶退火
    新材料熱穩定性研究
    MEMS器件加工
    納米器件加工

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