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    當前位置：首頁   >  產品中心   >  濕法刻蝕顯影清洗系統  >  EDC系列
            
    

    





    
	
    
        
        
        
        
    
        	
    
            	
      
                
                
                	
    • EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機
      

      


      Laurell-EDC勻膠顯影機系列勻膠顯影系統適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經驗積累，通過對各路試劑注射的控制，對氮氣和去離子水綜合應用，能夠完整實現樣片的干進干出。是當今*和經濟的濕法處理解決方案。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-07-01
      

      

      

      


      

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    • EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDC
      

      


      Laurell勻膠顯影機EDC產于美國，是原裝的濕法刻蝕設備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統，目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000m濕法刻蝕設備等多種半導體濕制成設備。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-07-01
      

      

      

      


      

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    • EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機
      

      


      EDC濕法刻蝕顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-07-01
      

      

      

      


      

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