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    • 238正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨

      正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 能選擇性地溶解未曝光的光刻膠,留下已曝光部分形成所需的圖形,從而將掩膜版上的圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片等襯底材料上。同時,它還可用于硅片的濕法刻蝕,對硅等材料進(jìn)行腐蝕加工,制作微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)結(jié)構(gòu),如加速度計、壓力傳感器等。

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      更新日期:2025-08-05
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