光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設計的革命性解決方案 產品核心優勢： 快速固化技術（FC）：專為 200 nm 以下微細結構 優化，即使低強度紫外光源（如 LED）也能實現高效固化，顯著提升生產效率。 Excellence刻蝕穩定性：相比標準型號（mr-NIL210），對 SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強，圖案轉移精度更高。 PDMS 印章最佳搭

高分辨率：支持 ＜100 nm 結構壓?。ㄈ鏼r-NIL212FC可實現200nm柱陣列）。 量產適配： UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續生產（R2R）。 T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩定性。 工藝靈活性： 可搭配 LOR 光刻膠實現金屬納米結構剝離（Lift-off）。 通過 SiPOL 硅含量樹脂實現圖案放大，用于深槽刻蝕。

Transene二氧化硅 (SiO?) 蝕刻液 光刻膠，高純度緩沖HF蝕刻劑，適用于熱生長或沉積的二氧化硅薄膜。Transene二氧化硅蝕刻劑是半導體應用的理想選擇，它能夠最小化蝕刻不足的情況，并具有廣泛的兼容性。緩沖氧化物蝕刻劑標準發貨時不含表面活性劑。可根據要求添加非PFAS表面活性劑。

KemLab光刻膠 TRANSIST系列產品與大多數濕法蝕刻液具有出色的兼容性，為微電子應用提供可靠、高分辨率的解決方案。TRANSIST提供正性和負性兩種工作方式的光敏抗蝕劑，

納米壓印膠 mr-NIL200 系列——專為高精度圖案轉移設計的紫外光固化解決方案。自粘附配方，無需底涂，專為硬質印章（石英/OrmoStamp®）設計。

mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術（soft UV-NIL）設計的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉移工藝中理想的蝕刻掩模材料。