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詳細介紹
M-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。M系列是用于光刻的掩模對準器。M-150專為6英寸晶圓設計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術參數
類型 | PLC手動控制系統 | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
P-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。P-150專為6英寸晶圓設計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術參數
類型 | 觸摸屏PC手動控制系統 | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7x7英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | IR BSA, CCD BSA |
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